分析装置

　 材料分析研究コアにおける元素分析(組成分析、化学分析)で用いている分析装置です。装置更新することがあるため、過去の分析依頼に基づくデータを論文等に用い装置名を明記する場合、ご注意ください。比較的最近更新した分析装置に関連して、更新に伴い廃棄等した装置についても当面の間、装置名(モデルや製造者等)の掲載を継続します。

装置一般名称: 誘導結合プラズマ発光分光分析装置
モデル (分析時期): ARCOS FHM22 MV130 (2016年～)　※iCAP PRO併用中
製造: SPECTRO Analytical Instruments GmbH, Kleve, Germany
仕様など: マルチ型、測定波長130–770 nm、パッシェンルンゲ光学系
分析法: 誘導結合プラズマ発光分光分析

装置一般名称: 誘導結合プラズマ発光分光分析装置
モデル (分析時期): iCAP PRO XP Duo (2024年5月～)　※ARCOS併用中
製造: Thermo Fisher Scientific Inc., Waltham, MA, United States
仕様など: マルチ型、エシェル分光、CID検出器
分析法: 誘導結合プラズマ発光分光分析

装置一般名称: 誘導結合プラズマ発光分光分析装置
モデル (分析時期): IRIS Advantage DUO (2001年～2024年4月; 廃棄済)
製造(現社名): Thermo Fisher Scientific Inc., Waltham, MA, United States
 (製造当時: Thermo Jarrell Ash Corp., Franklin, MA, United States)
仕様など: マルチ型、エシェル分光、CID検出器
分析法: 誘導結合プラズマ発光分光分析

装置一般名称: 誘導結合プラズマ質量分析装置
モデル (分析時期): iCAP TQ (2021年～)
製造: Thermo Fisher Scientific Inc., Waltham, MA, United States
仕様など: トリプル四重極、コリジョン・リアクションセル (ヘリウム・酸素・水素)
分析法: 誘導結合プラズマ質量分析

装置一般名称: 原子吸光分析装置
モデル (分析時期): contrAA 700 (2010～2021年) / contrAA 800D (2022年～)
製造: Analytik Jena GmbH, Jena, Germany
仕様など: キセノン連続光源、エシェル分光
分析法: フレーム原子吸光分析、黒鉛炉原子吸光分析(電気加熱原子吸光分析)

装置一般名称: マイクロ波誘導プラズマ発光分光分析装置
モデル (分析時期): 4210 MP-AES (2022年～)
製造: Agilent Technologies, Inc., Santa Clara, CA, United States
仕様など: 窒素プラズマ、シーケンシャル型
分析法: マイクロ波誘導プラズマ発光分光分析

装置一般名称: 炭素・硫黄分析装置
モデル (分析時期): CS-444 LS (1996～2018年; 廃棄済) / CS844 (2019年～)
製造: LECO Corp., Saint Joseph, MI, United States
仕様など: 無機材料用
分析法: 燃焼-赤外線吸収法

装置一般名称: 酸素・窒素分析装置
モデル (分析時期): TC-436 (1996～2018年) / ON836 (2019年～)
製造: LECO Corp., Saint Joseph, MI, United States
仕様など: 無機材料用
分析法(酸素): ヘリウム搬送 融解-赤外線吸収法
分析法(窒素): ヘリウム搬送 融解-熱伝導度法

装置一般名称: 水素分析装置
モデル (分析時期): EMGA-621 (1990～2017年; 廃棄済) / EMGA-821 (2018年～)
製造: HORIBA, Ltd., Kyoto, Japan
仕様など: 無機材料用
分析法: アルゴン搬送 融解-熱伝導度法

装置一般名称: 分光光度計
モデル (分析時期): U-2910 (2007年～)
製造: Hitachi, Ltd., Tokyo, Japan
仕様など: 測定波長190–1100 nm
分析法: 吸光光度分析

装置一般名称: イオンクロマトグラフ
モデル (分析時期): 850 Professional IC (2011年～)
製造: Metrohm AG, Herisau, Switzerland
仕様など: 電気伝導度検出、サプレッサ方式(陰イオン)/ノンサプレッサ方式(陽イオン)
分析法: イオンクロマトグラフィー

装置一般名称: 蛍光X線分析装置
モデル (分析時期): ZSX Primus II (2007年～)
製造: Rigaku Corp., Tokyo, Japan
仕様など: 4 kW ロジウムX線管球、₉F – ₉₂U、真空雰囲気
制限など: ヘリウム雰囲気、液体試料には非対応
分析法: 波長分散型蛍光X線分析